國立臺灣大學儀器設備共同使用中心(研究發展處企劃組)

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計畫主持人: 吳肇欣 所屬單位: 電機資訊學院 電機工程學系 儀器名稱 英文: Electron Beam Lithography System 中文: 電子束微影系統 儀器相關照片   放置地點 電機二館128室 聯絡資料 姓名 電話 email 吳肇欣 33663694 chaohsinwu@ntu.edu.tw 網站連結   可否提供 校外服務 是 可提供校外借用 可接受校外委託代為檢測、分析等 使用方式 通過訓練課程: 代工使用 其他: 儀器基本規格 Drawing method: Vector scanning Stage movement: Step and repeat Electron beam shape: Spot beam (Gaussian) Lithography field size: 2400μm x 2400μm(maximum) 75μm x 75μm(minimum) Minimum line width: 8nm or less (100kV, 75μm square field) Beam positioning: 240000x240000 positions (maximum) Beam positioning resolution: 0.31nm Emitter: ZrO/W thermal field emitter Acceleration voltage: 100kV, 75kV, 50kV, 25kV changeover Minimum beam diameter: 1.8nm (100kV) Beam current: 1pA~2nA Exposure area: 150mm x 130mm Stage movement range: X direction: 155mm, Y direction: 155mm, Z direction: ±2.5mm Laser interferometer resolution: 0.6nm Field stiching accuracy: 30nm Maximum specimen size: 6" wafer or 6" square mask, (8"optional) 儀器功能描述 利用能量為十萬電子伏特(eV)的「電子束」作為曝光源將所需的圖形縮小複製到晶片上，電子的波長比一般光微影製程所使用的光源波長更小，因此能提供更高的解析度。 儀器schedule 檢視 服務項目及收費標準 服務項目 時段[院內] 以次[院內] 會費[院內] 時段[校內] 以次[校內] 會費[校內] 時段[校外] 以次[校外] 會費[校外] 電子束微影 ──── ──── 80000 ──── ──── 100000 ──── ──── 200000

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